晶體生長工藝設備
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晶體生長工藝設備
產品名稱：VGF晶體生長系統
用途：主要用于半導體材料（砷化鎵、磷化銦）的晶體生長。 瀏覽次數：4306 |
詳細介紹
爐體結構： 立式管狀；
適用尺寸： 2”--6”；
加熱體溫區數： 6段；
顯示及監控段數： 6點控溫，多點監控；
控制方式： 儀表控制或微機控制；
爐體最高工作溫度： 高溫區1280℃；
溫度控制精度： 優于0.2℃；
儀表顯示精度： 0.1℃；
更詳細的參數歡迎來電垂詢！
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